原標(biāo)題:我國科學(xué)家開創(chuàng)第三類存儲技術(shù)
據(jù)新華社電 (記者吳振東)近日,復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院教授張衛(wèi)、周鵬團(tuán)隊實現(xiàn)了具有顛覆性的二維半導(dǎo)體準(zhǔn)非易失存儲原型器件,開創(chuàng)了第三類存儲技術(shù),寫入速度比目前U盤快一萬倍,數(shù)據(jù)存儲時間也可自行決定。這解決了國際半導(dǎo)體電荷存儲技術(shù)中“寫入速度”與“非易失性”難以兼得的難題。
據(jù)了解,目前半導(dǎo)體電荷存儲技術(shù)主要有兩類,第一類是易失性存儲,例如計算機(jī)中的內(nèi)存,掉電后數(shù)據(jù)會立即消失;第二類是非易失性存儲,例如人們常用的U盤,在寫入數(shù)據(jù)后無需額外能量可保存10年。前者可在幾納秒左右寫入數(shù)據(jù),第二類電荷存儲技術(shù)需要幾微秒到幾十微秒才能把數(shù)據(jù)保存下來。
此次研發(fā)的新型電荷存儲技術(shù),既滿足了10納秒寫入數(shù)據(jù)速度,又實現(xiàn)了按需定制(10秒-10年)的可調(diào)控數(shù)據(jù)準(zhǔn)非易失特性。這種全新特性不僅在高速內(nèi)存中可以極大降低存儲功耗,同時能實現(xiàn)數(shù)據(jù)有效期截止后自然消失,在特殊應(yīng)用場景解決了保密性和傳輸?shù)拿堋?br/>
這項研究創(chuàng)新性地選擇多重二維材料堆疊構(gòu)成了半浮柵結(jié)構(gòu)晶體管:二硫化鉬、二硒化鎢、二硫化鉿分別用于開關(guān)電荷輸運和儲存,氮化硼作為隧穿層,制成階梯能谷結(jié)構(gòu)的范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)?!斑x擇這幾種二維材料,將充分發(fā)揮二維材料的豐富能帶特性。一部分如同一道可隨手開關(guān)的門,電子易進(jìn)難出;另一部分像一面密不透風(fēng)的墻,電子難以進(jìn)出。對‘寫入速度’與‘非易失性’的調(diào)控,就在于這兩部分的比例。”周鵬說。
寫入速度比目前U盤快一萬倍,數(shù)據(jù)刷新時間是內(nèi)存技術(shù)的156倍,并且擁有卓越的調(diào)控性,可以實現(xiàn)按照數(shù)據(jù)有效時間需求設(shè)計存儲器結(jié)構(gòu)……經(jīng)過測試,研究人員發(fā)現(xiàn)這種基于全二維材料的新型異質(zhì)結(jié)能夠?qū)崿F(xiàn)全新的第三類存儲特性。
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